彩色濾光片製程
彩色濾光片基本結構是由玻璃基板（Glass Substrate），黑色矩陣（Black Matrix），彩色層（Color Layer），保護層（Over Coat），ITO導電膜組成。
彩色濾光片生產歷史中曾出現印刷法、染色法、染料分散法、電著法、乾膜法等等，但目前最主流的量產方式為顏料分散法（Pigment Dispersed Method），其中顏料分散型彩色光阻（Pigment Dispersed Color Resist，PDCR）為形成彩色層之原材料。
顏料分散法之彩色層形成類似半導體的黃光微影製程，首先將顏料分散型彩色光阻塗佈於已形成黑色矩陣的玻璃基板上，經軟烤（Pre-bake），曝光對準
（Aligned），顯影（Developed），光阻剝離（Stripping），硬烤（Post-bake）重覆此流程三次形成R,G,B 之三色圖形 （Pattern）。
Pattern圖形是由曝光對準製程中之光罩（Photo Mask）而來，一般皆是由面板廠（Panel）指定，提供設計圖樣。Pattern上之紅、綠、藍（R,G,B）畫素（Pixel），排列方式並不一定，可為馬賽克式、直條式、三角形式、四畫素等方式排列，主要是依顯示器之用途及視訊電極（Pixel Electrode）之形狀和大小而定。
一般而言如要顯示AV 動態畫面需採用如馬賽克式之不規則設計，如較常顯示文字畫面，如Note book，則採用直條式之設計。
玻璃基板主要應用在平面顯示器上的薄膜電晶體及彩色濾光片二處，所需的基本要求有五項：成分中不能含鹼金屬氧化物，以避免鹼金屬離子經由擴散作用移動至電晶體陣列中，造成電路短路；具耐化學性，以承受高溫製程中所使用的化學藥劑；熱膨脹係數須與薄膜電晶體陣列中的矽相近；高玻璃應變點，使熱收縮較小（低），有助於在 TFT 製程中精確地對準光蝕刻圖形；低的生產成本而能產製高品質的超薄平板玻璃。
偏光板廣泛應用於L C D產業，其在L C D中之主要功能為將背光模組的光源形成偏極化（即過濾非特定方向的光，而讓特定光線通過）。此偏極化後的光線再透過液晶分子的扭轉，即可控制光線通過的多寡，藉以達到控制L C D畫面明暗之目的。
ITO導電膜Indium Tin Oxide（ITO）純金屬薄膜Au、Ag、Pt、Cu、Al、Cr、Pd、Rh，在< 10nm厚度的薄膜，均有某種程度的可見光透光度早期使用之透明電極
缺點：光的吸收度大、硬度低、穩定性差。
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